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半导体行业观察：全球领先的存储半导体公司三星电子和SK海力士正加速推进高数值孔径极紫外光刻（High-NA EUV）技术的引入，该技术被誉为“梦寐以求的光刻设备”，旨在抢占下一代超微工艺的先机。