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半导体行业观察：开发极紫外（EUV）光刻扫描仪的关键挑战之一是构建强大而可靠的光源。目前唯一一家生产EUV光刻设备的公司ASML采用较为复杂的激光等离子体（LPP）技术来产生EUV光。