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芯片制造走到3nm及以下节点，光刻已经不再是一个“光学曝光”问题，而是一个“计算问题”。当特征尺寸逼近甚至小于曝光波长时，光学邻近效应让掩模上画出来的图案和晶圆上印出来的图案严重偏离。一个矩形在晶圆上