今日前沿 | 武汉理工/华中科技大学：零维半导体Cs₂UO₂Cl₄-无悬挂键、化学各向异性、超高分辨率X射线成像，Nature Photonics
已收录文章摘要，完整内容可前往原文阅读。
界面缺陷（Interfacial defects尤其是晶界处的缺陷），一直是制约现代光电器件性能的长期挑战之一。传统三维和低维（二维或一维）半导体，都存在表面或边缘相关的化学键合不连续，从而降低载流子
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界面缺陷（Interfacial defects尤其是晶界处的缺陷），一直是制约现代光电器件性能的长期挑战之一。传统三维和低维（二维或一维）半导体，都存在表面或边缘相关的化学键合不连续，从而降低载流子