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锗（Ge）是半导体研发历史上研究最早的材料之一。然而，受限于锗表面难以钝化以及大直径锗晶圆难以生长等因素，最终采用硅（Si）的CMOS晶体管占据了主导地位并取得了商业成功。在Si衬底上生长的Ge薄膜历